光學(xué)鏡片經(jīng)過研磨液細(xì)磨后,其表面尚有厚約2–3m的裂痕層,要消除此裂痕層的方法即為拋光。拋光與研磨的機(jī)制一樣,唯其所使用的工具材質(zhì)與拋光液(slurry)不同,拋光所使用的材料有絨布(cloth)、拋光皮(polyurethane)及瀝青(pitch),通常要達(dá)到高精度的拋光面,最常使用的材料為純度高拋光瀝青。

利用瀝青來拋光,是藉由瀝青細(xì)致的表面,帶動(dòng)拋光液研磨鏡片表面生熱,使玻璃熔化流動(dòng),熔去粗糙的頂點(diǎn)并填平裂痕的谷底,逐漸把裂痕層除去。目前拋光玻璃鏡片所使用的拋光粉以CeO2為主激光聚焦鏡,拋光液調(diào)配的比例依鏡片拋光時(shí)期不同而有所不同,一般拋光初期與和拋光模合模時(shí)使用濃度較高的拋光液,鏡片表面光亮后,則改用濃度較稀的拋光液,以避免鏡面產(chǎn)生橘皮現(xiàn)象(鏡片表面霧化)。
拋光與研磨所用的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)相同,除了拋光的工具與工作液體不一樣外,拋光時(shí)所需環(huán)境條件亦較研磨時(shí)嚴(yán)苛。一般拋光時(shí)要注意的事項(xiàng)如下:拋光瀝青的表面與拋光液中不可有雜質(zhì),不然會(huì)造成鏡面刮傷。拋光瀝青表面要與鏡片表面吻合,否則拋光時(shí)會(huì)產(chǎn)生跳動(dòng),因而咬持拋光粉而刮傷鏡片表面。
拋光前必須確定鏡片表面是否有研磨后所留下的激光保護(hù)鏡刮傷或刺孔。拋光工具的大小與材質(zhì)是否適當(dāng)。瀝青的軟硬度與厚度是否適當(dāng)。拋光的過程中必須隨時(shí)注意鏡片表面的狀況及精度檢查。透鏡表面瑕疵的檢查,因?yàn)闄z測(cè)的過程是憑個(gè)人視覺及方法來判斷,所以檢驗(yàn)者應(yīng)對(duì)刮傷及砂孔的規(guī)范有深刻的認(rèn)知,要經(jīng)常比對(duì)刮傷與砂孔的標(biāo)準(zhǔn)樣版,以確保檢驗(yàn)的正確性。
盡管近紅外光譜不屬于特別靈敏的分析技術(shù),但由于該技術(shù)具有不需要樣品預(yù)處理的特點(diǎn),其非常適合于過程監(jiān)測(cè)、材料科學(xué)和醫(yī)療等領(lǐng)域的應(yīng)用。
專家們認(rèn)為近紅外光譜技術(shù)進(jìn)展主要是新成像系統(tǒng)和儀器的小型化。
Pierr激光準(zhǔn)直鏡eDardenne是比利時(shí)瓦隆農(nóng)業(yè)研究中心的部門主任,他認(rèn)為近紅外技術(shù)的兩大進(jìn)展是高光譜成像和便攜式儀器。GaryMcGeorge是百時(shí)美施貴寶公司(bristol-myerssquibb)的高級(jí)首席科學(xué)家,他贊同Dardenne關(guān)于高光譜成像重要性的觀點(diǎn)。“成像光譜儀和高光譜成像儀的商品化和應(yīng)用是近紅外領(lǐng)域過去十年的顯著性變革”,他說,“成像技術(shù)可以給出藥物中成分的微觀分布信息,為進(jìn)一步了解該藥物的功效提供幫助。”
McGeorge指出,這些成像儀器除了用于藥品分析外,還可與機(jī)器視覺系統(tǒng)光學(xué)鏡片結(jié)合用于農(nóng)業(yè)和食品加工領(lǐng)域。他說:“如果分析時(shí)只需要幾個(gè)波長,這些成像系統(tǒng)可以在幾秒鐘之內(nèi)得到實(shí)時(shí)的圖像,這在以前是不可能的事。”

BenoitIgne是葛蘭素史克(GSK)公司的首席科學(xué)家,也是近紅外光譜學(xué)會(huì)(CouncilforNear-InfraredSpectroscopy)主席當(dāng)選人,他認(rèn)為主要的進(jìn)展是近紅外系統(tǒng)的小型化。他說:“過去5–10年,近紅外最重要的進(jìn)展是市場(chǎng)上存在的低成本、小型、專用儀器,它們可以替代大型儀器用于研發(fā)、現(xiàn)場(chǎng)和生產(chǎn)等場(chǎng)合。”BenoitIgne認(rèn)為微型F光學(xué)透鏡T-NIR、MEMS-NIR、LVF-NIR可用于先前研究級(jí)儀器所應(yīng)用的領(lǐng)域,例如實(shí)時(shí)分析、在線監(jiān)測(cè)和過程控制。他補(bǔ)充說:“這類儀器的低成本特點(diǎn),甚至允許儀器在出現(xiàn)故障時(shí)換一臺(tái)新儀器,而不是維修,具備完全顛覆傳統(tǒng)儀器生命周期的能力。”
使近紅外光譜這么令人關(guān)注,同時(shí)也是使其難以應(yīng)用的原因是近紅外光譜對(duì)樣品的基體非常敏感。”他指出,除非建立的模型經(jīng)過認(rèn)真系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和驗(yàn)證,否則所建立的模型極易受樣品基體的影響,例如樣品的顆粒度、密度、濕度和溫度,而系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和驗(yàn)證工作通常需要大量的時(shí)間、精力和資金。
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